利用ICP法测定ZnMgO薄膜的Mg组分

延凤平; 简水生; 尾形健一; 小池一步; 佐佐诚彦; 井上正崇; 矢野满明

doi:10.7498/aps.55.3013

摘要
利用电感耦合等离子体(ICP)装置对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的Mg组分进行了测试. 经理论分析，得到使用1次和2次检量式所确定的Zn1-xMgxO薄膜中的Mg组分的差异. 将采用1次检量式的ICP测定与EPMA测定结果进行对照，表明当Mg组分x≤0.5时二者的测试结果相当一致，由此证明ICP测试结果的正确性.

关键词:
ZnMgO薄膜 /

Mg组分 /

分子束外延(MBE) /

电感耦合等离子体(ICP)
Abstract
Mg contents of Zn1-xMgxO film grown on A-sapphire substrates by molecular beam epitaxy were measured by inductively coupled plasma (ICP) method. Through theoretical analysis, an expression for the difference of Mg content in Zn1-xMgxO film calculated by simple and quadratic inspection formula was given. By comparing the measured results of the ICP with electron probe microanalysis (EPMA), the consistency of ICP with simple inspection formula and EPMA was deduced when Mg content in the samples is less than 0.5, thus the correctness of the data measured by ICP was validated.

Keywords:
ZnMgO film /

Mg content /

molecular beam epitaxy (MBE) /

inductively coupled plasma (ICP)
作者及机构信息
延凤平⁵,

简水生⁴,

尾形健一¹,

小池一步²,

佐佐诚彦³,

井上正崇³,

矢野满明³

(1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology,Osaka,Japan; (2)New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan; (3)New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology,Osaka,Japan; (4)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044;New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan
Authors and contacts
Yan Feng-Ping⁵,

Jian Shui-Sheng⁴,

Ogata K.¹,

Koike K.²,

Sasa S.³,

Inoue M.³,

Yano M.³

(1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology,Osaka,Japan; (2)New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan; (3)New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology,Osaka,Japan; (4)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044;New Material Research Center, Osaka Institute of Technology Osaka,Japan
参考文献

施引文献

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