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H2对Ar稀释SiH4等离子体CVD制备多晶硅薄膜的影响

祁 菁 金 晶 胡海龙 高平奇 袁保和 贺德衍

引用本文:
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H2对Ar稀释SiH4等离子体CVD制备多晶硅薄膜的影响

祁 菁, 金 晶, 胡海龙, 高平奇, 袁保和, 贺德衍

Effect of H2 on polycrystalline Si films deposited by plasma-enhanced CVD using Ar-diluted SiH4

Qi Jing, Jin Jing, Hu Hai-Long, Gao Ping-Qi, Yuan Bao-He, He De-Yan
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-11-01
  • 修回日期:  2006-02-21
  • 刊出日期:  2006-11-20

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