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方块电阻法原位表征Cu薄膜氧化反应动力学规律

罗宇峰 钟 澄 张 莉 严学俭 李 劲 蒋益明

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方块电阻法原位表征Cu薄膜氧化反应动力学规律

罗宇峰, 钟 澄, 张 莉, 严学俭, 李 劲, 蒋益明

An in situ method for characterizing the kinetics of the oxidation process of copper thin films via sheet resistance

Luo Yu-Feng, Zhong Cheng, Zhang Li, Yan Xue-Jian, Li Jin, Jiang Yi-Ming
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-03-07
  • 修回日期:  2007-04-06
  • 刊出日期:  2007-11-20

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