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基片温度对SiNx薄膜结晶状态及机械性能的影响

丁万昱 徐 军 陆文琪 邓新绿 董 闯

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基片温度对SiNx薄膜结晶状态及机械性能的影响

丁万昱, 徐 军, 陆文琪, 邓新绿, 董 闯

Influences of substrate temperature on crystalline characteristics and mechanical properties of SiNx films deposited by microwave electron cyclotron resonance magnetron sputtering

Ding Wan-Yu, Xu Jun, Lu Wen-Qi, Deng Xin-Lu, Dong Chuang
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-11-27
  • 修回日期:  2008-02-27
  • 刊出日期:  2008-04-05

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