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GeC薄膜的射频磁控反应溅射制备及性质

李阳平 刘正堂 刘文婷 闫 峰 陈 静

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GeC薄膜的射频磁控反应溅射制备及性质

李阳平, 刘正堂, 刘文婷, 闫 峰, 陈 静

Preparation and properties of GeC thin films deposited by reactive RF magnetron sputtering

Li Yang-Ping, Liu Zheng-Tang, Liu Wen-Ting, Yan Feng, Chen Jing
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-11-20
  • 修回日期:  2008-02-03
  • 刊出日期:  2008-05-05

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