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碳化硅中氦离子高温注入引入的缺陷及其退火行为的光谱研究

张洪华 张崇宏 李炳生 周丽宏 杨义涛 付云翀

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碳化硅中氦离子高温注入引入的缺陷及其退火行为的光谱研究

张洪华, 张崇宏, 李炳生, 周丽宏, 杨义涛, 付云翀

Optical properties revealing annealing behavior of high-temperature He-implantation induced defects in silicon carbide

Zhang Hong-Hua, Zhang Chong-Hong, Li Bing-Sheng, Zhou Li-Hong, Yang Yi-Tao, Fu Yun-Chong
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-07-21
  • 修回日期:  2008-10-28
  • 刊出日期:  2009-05-20

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