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沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响

丁艳丽 朱志立 谷锦华 史新伟 杨仕娥 郜小勇 陈永生 卢景霄

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沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响

丁艳丽, 朱志立, 谷锦华, 史新伟, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄

Effect of deposition rate on the scaling behavior of microcrystalline silicon films prepared by very high frequency-plasma enhanced chemical vapor deposition

Ding Yan-Li, Zhu Zhi-Li, Gu Jin-Hua, Shi Xin-Wei, Yang Shi-E, Gao Xiao-Yong, Chen Yong-Sheng, Lu Jing-Xiao
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-04-21
  • 修回日期:  2009-06-10
  • 刊出日期:  2010-01-05

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