搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

基于等离子体增强化学气相沉积技术的光电子器件多层抗反膜的设计和制作

袁贺 孙长征 徐建明 武庆 熊兵 罗毅

引用本文:
Citation:

基于等离子体增强化学气相沉积技术的光电子器件多层抗反膜的设计和制作

袁贺, 孙长征, 徐建明, 武庆, 熊兵, 罗毅

Design and fabrication of multilayer antireflection coating for optoelectronic devices by plasma enhanced chemical vapor deposition

Yuan He, Sun Chang-Zheng, Xu Jian-Ming, Wu Qing, Xiong Bing, Luo Yi
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  7554
  • PDF下载量:  737
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2009-08-26
  • 修回日期:  2010-02-03
  • 刊出日期:  2010-05-05

/

返回文章
返回