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锗硅/硅异质结材料的化学气相淀积生长动力学模型

戴显英 金国强 董洁琼 王船宝 赵娴 楚亚萍 奚鹏程 邓文洪 张鹤鸣 郝跃

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锗硅/硅异质结材料的化学气相淀积生长动力学模型

戴显英, 金国强, 董洁琼, 王船宝, 赵娴, 楚亚萍, 奚鹏程, 邓文洪, 张鹤鸣, 郝跃

A kinetics model for the chemical vapor deposition growth of SiGe/Si heterojunction materials

Dai Xian-Ying, Jin Guo-Qiang, Dong Jie-Qiong, Wang Chuan-Bao, Zhao Xian, Chu Ya-Ping, Xi Peng-Cheng, Deng Wen-Hong, Zhang He-Ming, Hao Yue
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-11-18
  • 修回日期:  2010-12-20
  • 刊出日期:  2011-03-05

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