搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

反应磁控溅射ZrN/AlON纳米多层膜的晶体生长和超硬效应

刘 艳 董云杉 岳建岭 李戈扬

引用本文:
Citation:

反应磁控溅射ZrN/AlON纳米多层膜的晶体生长和超硬效应

刘 艳, 董云杉, 岳建岭, 李戈扬

Crystal growth and superhardness effects of ZrN/AlON nanomultilayers synthesized by reactive magnetron sputtering

Liu Yan, Dong Yun-Shan, Yue Jian-Ling, Li Ge-Yang
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  6367
  • PDF下载量:  989
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2006-02-22
  • 修回日期:  2006-04-07
  • 刊出日期:  2006-11-20

反应磁控溅射ZrN/AlON纳米多层膜的晶体生长和超硬效应

  • 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海 200030
    基金项目: 国家自然科学基金(批准号:50571062)资助的课题.

摘要: 采用Zr靶和Al2O3靶通过在Ar,N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法制备了不同AlON调制层厚和不同ZrN调制层厚的两个系列的ZrN/AlON纳米多层膜.利用X射线能量色散谱仪、X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针研究了多层膜的成分、微结构和力学性能.结果表明,在Ar,N2混合气氛中对Al2O3进行溅射的过程中,N原子会部分取代Al2O3中的氧原子,形成AlON化合物.在ZrN/AlON纳米多层膜中,由于受到ZrN晶体调制层的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的AlON层在其厚度小于0.9nm时被强制晶化并与ZrN层形成共格外延生长;相应地,多层膜的硬度明显提高,最高硬度达到33.0GPa.进一步增加多层膜中AlON调制层的厚度,AlON层形成非晶结构,破坏了多层膜的共格外延生长,导致其硬度逐步降低.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回