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溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

狄国庆

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溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

狄国庆

Surface morphology and optical properties of Ta2O5 films prepared by radio frequency sputtering

Di Guo-Qing
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  • 在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.
    Ta2O5 films were deposited at room temperature by radio frequency(RF) sputtering with the target of bulk Ta2O5, in Ar or Ar-O2 mixture atmosphere. The reflectivity spectra measured from two sides of a film are compared to evaluate the optical absorption of the film. It is found that the excess optical absorption arises from deficiency in oxygen during sputtering. These defects can be eliminated effectively by selecting adequate Ar-O2 mixture and power for sputtering, and unabsorbing Ta2O5 films with compactness and smoothness can be obtained without annealing.
    • 基金项目: 江苏省高校自然科学重大基础研究项目(批准号:05KJA43006)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-04-19
  • 修回日期:  2010-05-31
  • 刊出日期:  2011-03-15

溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

  • 1. 薄膜材料江苏省重点实验室,苏州大学物理科学与技术学院,苏州 215006
    基金项目: 江苏省高校自然科学重大基础研究项目(批准号:05KJA43006)资助的课题.

摘要: 在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.

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