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射频磁控溅射沉积的ZnO薄膜的光致发光中心与漂移

李伙全 宁兆元 程珊华 江美福

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射频磁控溅射沉积的ZnO薄膜的光致发光中心与漂移

李伙全, 宁兆元, 程珊华, 江美福

Photoluminescence centers and shift of ZnO films deposited by rf magnetron sputtering

Li Huo-Quan, Ning Zhao-Yuan, Cheng Shan-Hua, Jiang Mei-Fu
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-04-15
  • 修回日期:  2003-06-02
  • 刊出日期:  2004-03-15

射频磁控溅射沉积的ZnO薄膜的光致发光中心与漂移

  • 1. 苏州大学物理科学与技术学院薄膜材料江苏省重点实验室,苏州 215006
    基金项目: 国家自然科学基金(批准号:90101025和90206028)和国家杰出青年基金(批准号:60125103)资助的课题.

摘要: 利用射频磁控溅射法在n型单晶硅衬底上制备了ZnO薄膜.通过改变源气体中氩气和氧气的流量比制备了具有不同化学计量比的ZnO薄膜,并且将它们在真空中作了加热后处理来研究ZnO薄膜的光致发光特性.这些在常温衬底上沉积的薄膜可发出强的蓝光,其峰位会随氧流量的减少而发生红移.从导带底到锌缺陷形成的受主能级之间的跃迁可能是产生蓝光发射的原因.

English Abstract

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