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BF+2注入多晶硅栅F迁移特性的分析与模拟

张廷庆 李建军 刘家璐 赵元富

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BF+2注入多晶硅栅F迁移特性的分析与模拟

张廷庆, 李建军, 刘家璐, 赵元富

ANALYSIS AND SIMULATION OF FLUORINE MIGRATION CHARACTERISTICS OF BF+2-IMPLANTED INTO POLYCRYSTALLINE SILICON GATE

ZHANG TING-QING, LI JIAN-JUN, LIU JIA-LU, ZHAO YUAN-FU
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-08-06
  • 修回日期:  1997-09-29
  • 刊出日期:  1998-02-05

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