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磁层顶中的低混杂漂移不稳定性

涂传诒

磁层顶中的低混杂漂移不稳定性

涂传诒
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出版历程
  • 收稿日期:  1979-07-09
  • 修回日期:  1981-08-12
  • 刊出日期:  2005-07-27

磁层顶中的低混杂漂移不稳定性

  • 1. 北京大学地球物理系

摘要: 本文讨论了具有简单结构磁层顶中的低混杂漂移不稳定性,假定在磁层顶中磁场方向是相互平行的,电子与离子的密度处处相等,总压力为一常数,采用1971年Alpers建立的分布函数做为零级分布,计算了下混杂漂移不稳定性的增长率和饱和时相应的反常电阻,计算表明,当磁层顶厚度接近两个质子迴旋半径时,低混杂漂移不稳定性的增长率约为0.26ωLH(ωLH为低混杂频率),反常电阻率为10-5sec,随着磁层顶厚度成倍增加,反常电阻率以指数形式下降。

English Abstract

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