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熔石英亚表面杂质颗粒附近光场调制的三维模拟

花金荣 李莉 向霞 祖小涛

熔石英亚表面杂质颗粒附近光场调制的三维模拟

花金荣, 李莉, 向霞, 祖小涛
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  • 熔石英亚表面缺陷是光学材料低损伤阈值的主要因素之一.本文建立了熔石英亚表面三维球形杂质颗粒模型,采用三维时域有限差分方法对杂质附近的光场进行了数值模拟,分析了杂质的介电常数与尺寸对光强增强因子的影响,结果显示:介电常数小于熔石英的杂质,其光强增强因子不随尺寸、介电常数的改变而改变,均保持为4左右;当介电常数为6.0时,半径为1.5λ,2λ及2.5λ的杂质,相应的光强增强因子分别为50.1588,73.3904及102.9953,即增强因子随杂质尺寸的增大而增大;恰
    • 基金项目: 国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA804233,2008AA8040508),电子科技大学青年基金重点项目(批准号:L08010401JX0806),国家自然科学基金和中国工程物理研究院联合基金(批准号:11070008)资助的课题.
    [1]

    Sun C W, Lu Q S, Fan Z X 2002 Laser Irradiation Effect (Beijing: National Defense Industry Press) p265 (in Chinese) [孙承纬、陆启生、范正修 2002 激光辐照效应 (北京:国防工业出版社) 第265页]

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    Hamza A V, Siekhaus W, Rubenchik A M 2002 Proc. SPIE 4679 96

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    Xiang X, Chen M, Chen M Y, Zu X T, Zhu S, Wang L M 2010 Chin. Phys. B 19 018107

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    Li L, Lei Y, Xiao S Q 2009 High Power Laser and Particle Beams 21 936 (in Chinese)[李 莉、雷 雨、肖邵球 2009 强 激光与粒子束 20 936] 〖19] Ge D B, Yan Y B 2002 Electro Magnetic Wave and FDTD (Xi’an: Xidian University Press) p14 (in Chinese) [葛德彪、闫玉波 2002 电磁波时域有限差分方法 (西安: 西安电子科技大学出版社) 第14页]

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    Xue S W, Zu X T, Shao L X, Yuan Z L, Xiang X, Deng H 2008 Chin. Phys. 17 2240

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  • [1] 花金荣, 祖小涛, 李莉, 向霞, 陈猛, 蒋晓东, 袁晓东, 郑万国. 熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟. 物理学报, 2010, 59(4): 2519-2524. doi: 10.7498/aps.59.2519
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-05-05
  • 修回日期:  2010-05-31
  • 刊出日期:  2011-02-05

熔石英亚表面杂质颗粒附近光场调制的三维模拟

  • 1. 电子科技大学物理电子学院,成都 610054
    基金项目: 

    国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA804233,2008AA8040508),电子科技大学青年基金重点项目(批准号:L08010401JX0806),国家自然科学基金和中国工程物理研究院联合基金(批准号:11070008)资助的课题.

摘要: 熔石英亚表面缺陷是光学材料低损伤阈值的主要因素之一.本文建立了熔石英亚表面三维球形杂质颗粒模型,采用三维时域有限差分方法对杂质附近的光场进行了数值模拟,分析了杂质的介电常数与尺寸对光强增强因子的影响,结果显示:介电常数小于熔石英的杂质,其光强增强因子不随尺寸、介电常数的改变而改变,均保持为4左右;当介电常数为6.0时,半径为1.5λ,2λ及2.5λ的杂质,相应的光强增强因子分别为50.1588,73.3904及102.9953,即增强因子随杂质尺寸的增大而增大;恰

English Abstract

参考文献 (20)

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