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多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析

晋云霞 邵建达 范正修 刘世杰 沈 健 沈自才 孔伟金 魏朝阳

多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析

晋云霞, 邵建达, 范正修, 刘世杰, 沈 健, 沈自才, 孔伟金, 魏朝阳
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-12-03
  • 修回日期:  2006-01-25
  • 刊出日期:  2006-09-20

多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析

  • 1. (1)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800;中国科学院研究生院,北京 100049
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:10376040)资助的课题.

摘要: 利用傅里叶模式理论分析了TE波自准直角入射的使用条件下,多层介质膜光栅的光栅区和多层膜区电场分布的特点.分别讨论了HfO2和SiO2为顶层光栅材料时,光栅结构参数对光栅脊峰值电场的影响,结果表明,对于不同膜厚的顶层材料,存在一个最佳膜厚度,使光栅脊峰值电场最小,并且当膜厚增大时,设计大高宽比的光栅可以降低该电场峰值.最后,在大角度条件下使用多层膜光栅也可以降低光栅脊处的峰值电场.

English Abstract

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