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一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法

张继涛 李岩 罗志勇

一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法

张继涛, 李岩, 罗志勇
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  • 提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,X射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无关.在单晶硅基底上制备了厚度分别为2 nm,18 nm,34 nm,61 nm及170 nm的SiO2薄膜标样,并用强制过零点的直线拟合了两种方法的标样测量结果,拟合直线的斜率为1013±0013,表明该方法可在薄膜厚度测量中标定光谱椭偏仪.
    • 基金项目: 国家科技支撑计划(批准号:2006BAF06B06)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-04-08
  • 修回日期:  2009-05-06
  • 刊出日期:  2010-01-15

一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法

  • 1. (1)清华大学精密仪器与机械学系,精密测试技术及仪器国家重点实验室,北京 100084; (2)中国计量科学研究院,北京 100013
    基金项目: 

    国家科技支撑计划(批准号:2006BAF06B06)资助的课题.

摘要: 提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,X射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无关.在单晶硅基底上制备了厚度分别为2 nm,18 nm,34 nm,61 nm及170 nm的SiO2薄膜标样,并用强制过零点的直线拟合了两种方法的标样测量结果,拟合直线的斜率为1013±0013,表明该方法可在薄膜厚度测量中标定光谱椭偏仪.

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