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带有碳杂质的钨中氢稳定性的第一性原理研究

金硕 孙璐

带有碳杂质的钨中氢稳定性的第一性原理研究

金硕, 孙璐
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  • 应用第一性原理计算方法研究了碳(C)原子对钨(W)中氢(H)原子稳定性的影响. 本征W中, 当C-H间距离为~2.5 Å时, H的溶解能出现最低值, 此时为H最稳定的位置. W中存在空位时, 由于C的影响, H占据的最佳电子密度面值为0.10 Å-3. 研究发现, W中单空位最多能容纳10个H原子, 且不能形成H分子, 不同于没有C存在的情况, 表明C对W中H稳定性存在很大影响. 此外, 当两个C原子存在于空位中时, H占据的最佳电子密度面值变为0.13 Å-3.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:50871009, 51001006)和北航“唯实”人才培育基金(批准号: YWF-11-03-Q-080)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-01-19
  • 修回日期:  2011-07-04
  • 刊出日期:  2012-02-05

带有碳杂质的钨中氢稳定性的第一性原理研究

  • 1. 北京航空航天大学, 物理科学与核能工程学院, 北京 100191
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50871009, 51001006)和北航“唯实”人才培育基金(批准号: YWF-11-03-Q-080)资助的课题.

摘要: 应用第一性原理计算方法研究了碳(C)原子对钨(W)中氢(H)原子稳定性的影响. 本征W中, 当C-H间距离为~2.5 Å时, H的溶解能出现最低值, 此时为H最稳定的位置. W中存在空位时, 由于C的影响, H占据的最佳电子密度面值为0.10 Å-3. 研究发现, W中单空位最多能容纳10个H原子, 且不能形成H分子, 不同于没有C存在的情况, 表明C对W中H稳定性存在很大影响. 此外, 当两个C原子存在于空位中时, H占据的最佳电子密度面值变为0.13 Å-3.

English Abstract

参考文献 (37)

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