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建立了坑点型划痕的旋转抛物面模型, 用三维时域有限差分方法研究了熔石英后表面坑点型划痕随深度、宽度、间距以及酸蚀量变化对波长 =355 nm入射激光的调制.研究表明, 这类划痕调制最强区位于相邻两坑点的连接区, 且越靠近表面调制越强.当其宽深比为2.03.5、坑点间距约为坑点宽度的1/2时, 可获得最大光场调制, 最大光强增强因子(LIEF)为11.53; 当坑点间距大于坑点宽度时, 其调制大为减弱, 相当于单坑的场调制.对宽为60 ( =/12), 深和间距均为30的坑点型划痕进行刻蚀模拟, 刻蚀过程中最大LIEF为11.0, 当间距小于300 nm时, 相邻坑点由于衍射形成场贯通.
[1] Campbell J H, Hawley-Fedder R A, Stolz C J, Menapace J A, Borden M R, Whitman P K, Yu J, Runkel M J, Riley M O, Feit M D, Hackel R P 2004 Proc. SPIE 5341 84
[2] Huang W Q 2009 MS Thesis (Mianyang: China Academy of Engineering Physics) (in Chinese) [黄晚晴 2009 硕士学位论文 (绵阳: 中国工程物理研究院)]
[3] Belleville P, Prenè P, Bonnin C, Beaurain L, Montouillout Y, Lavastre É 2004 Proc. SPIE 5250 196
[4] Pègon P M, Germain C V, Rorato Y R, Belleville P F, Lavastre E 2004 Proc. SPIE 5250 170
[5] Bercegol H, Bouchut P R, Lamaignere L, Le Garrec B, Raze G 2004 Proc. SPIE 5273 312
[6] Papernov S, Schmid A W 2008 Proc. SPIE 7132 71321J-1
[7] Liu F M, Zhang L D, Li G H 2005 Chin. Phys. 14 2145
[8] Bloembergen N 1973 Appl. Opt. 12 661
[9] Hua J R, Zu X T, Li L, Xiang X, Chen M, Jiang X D, Yuan X D, Zheng W G 2010 Acta Phys. Sin. 59 2519 (in Chinese) [花金荣, 祖小涛, 李莉, 向霞, 陈猛, 蒋晓东, 袁晓东, 郑万国 2010 物理学报 59 2519]
[10] Hua J R, Li L, Xiang X, Zu X T 2011 Acta Phys. Sin. 60 044206 (in Chinese) [花金荣, 李莉, 向霞, 祖小涛 2011 物理学报 60 044206]
[11] Ge D B, Yan Y B 2005 FDTD Method for Electromagnetic Waves (Xi'an: Xidian University Press) (in Chinese) [葛德彪, 闫玉波 2005 电磁波时域有限差分方法 (西安: 西安电子科技大学出版社)]
[12] Wang F R, Huang J, Liu H J, Zhou X D, Jiang X D, Wu W D, Zheng W G 2010 Acta Phys. Sin. 59 5122 (in Chinese) [王凤蕊, 黄进, 刘红婕, 周信达, 蒋晓东, 吴卫东, 郑万国 2010 物理学报 59 5122]
[13] Miller G H, Moses E I, Wuest C R 2004 Opt. Eng. 43 2841
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[1] Campbell J H, Hawley-Fedder R A, Stolz C J, Menapace J A, Borden M R, Whitman P K, Yu J, Runkel M J, Riley M O, Feit M D, Hackel R P 2004 Proc. SPIE 5341 84
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[13] Miller G H, Moses E I, Wuest C R 2004 Opt. Eng. 43 2841
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