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基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测

马智超 徐智谋 彭静 孙堂友 陈修国 赵文宁 刘思思 武兴会 邹超 刘世元

基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测

马智超, 徐智谋, 彭静, 孙堂友, 陈修国, 赵文宁, 刘思思, 武兴会, 邹超, 刘世元
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  • 本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用自研制的新型广义椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60,方位角75的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,最大误差小于1%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:61076042,60607006)、国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2011YQ16000205)和国家高技术研究发展计划(批准号:2011AA03A106)资助的课题.
    [1]

    Chou S Y, Krauss P R, Renstrom P J 1996 Science 272 85

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    Ding Y, Hyun Wook Ro, Douglas J F, Jones R L, Hine D R, Karim A, Soles C L 2007 Adv. Mater. 19 1377

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    Takuya Ohzono, Hirohmi Watanabe, Richard Vendamme, Carina kamaga, Toyoki Kunitake, Teruya Ishihara, Masatsugu Shimomura 2007 Adv. Mater. 19 3229

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    Stafford C M, Harrison C, Beers K L, Karim A, Amis E J, Vanlandingham M R, Kim H, Willivolksen, Miller R D, Simonyi E E 2004 Nat. Mater. 3 345

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    El kodadi M, Soulan S, Mbesacier, Schiavone P 2009 Micro. Engin. 86 1040

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    Al-Assaad R M, Li T, Hu W C 2008 J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 7 013008

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  • [1] 陈修国, 刘世元, 张传维, 吴懿平, 马智超, 孙堂友, 徐智谋. 基于Mueller矩阵椭偏仪的纳米压印模板与光刻胶光栅结构准确测量. 物理学报, 2014, 63(18): 180701. doi: 10.7498/aps.63.180701
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-10-09
  • 修回日期:  2013-10-20
  • 刊出日期:  2014-02-05

基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测

  • 1. 华中科技大学光学与电子信息学院, 武汉 430074;
  • 2. 武汉科技大学理学院, 武汉 430081;
  • 3. 华中科技大学数学制造装备与技术国家重点实验室, 武汉 430074
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:61076042,60607006)、国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2011YQ16000205)和国家高技术研究发展计划(批准号:2011AA03A106)资助的课题.

摘要: 本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用自研制的新型广义椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60,方位角75的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,最大误差小于1%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义.

English Abstract

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