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改性光刻胶制备纳米压印模版

陈雷明 郭艳峰 郭 熹 唐为华

改性光刻胶制备纳米压印模版

陈雷明, 郭艳峰, 郭 熹, 唐为华
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  • 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.
    • 基金项目: 中国科学院“百人计划”资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-01-23
  • 修回日期:  2006-08-10
  • 刊出日期:  2006-06-05

改性光刻胶制备纳米压印模版

  • 1. (1)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京 100080; (2)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京 100080;浙江理工大学物理系,杭州 310018; (3)中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,北京 100080;郑州航空工业管理学院数理系,郑州 450015
    基金项目: 

    中国科学院“百人计划”资助的课题.

摘要: 制备纳米压印中的模版是压印技术的基本条件.目前很多压印模版是利用高硬度材料制作的,但是这些材料比较难以加工,从而限制了纳米压印技术的发展.提出一种利用光刻胶制备纳米压印模版的方法.利用聚焦离子束对光刻胶的改性作用,控制加工的条件,将柔性的光刻胶改性为硬度很高的材料,从而形成纳米压印模版.这种方法具有速度快、制备简单等特点,是一种新颖的加工方式,扩展了聚焦离子束的加工范围,可用于其他的纳米加工领域.

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