锰的硅化物薄膜在Si(100)-2×1表面生长的STM研究
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (6): 066801     doi:10.7498/aps.61.066801
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锰的硅化物薄膜在Si(100)-2×1表面生长的STM研究
李玮聪1,邹志强12,王丹1,石高明12
1. 上海交通大学分析测试中心, 上海 200240;
2. 上海交通大学物理系, 上海 200240
STM study of growth of manganese silicide thin films on a Si(100)-2×1 surface
Li Wei-Cong1,Zou Zhi-Qiang12,Wang Dan1,Shi Gao-Ming12
1. Instrumental Analysis Center, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200240, China;
2. Department of Physics, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200240, China

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