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NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究

高义华 张 泽 阎明朗 赖武彦

NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究

高义华, 张 泽, 阎明朗, 赖武彦
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-12-15
  • 刊出日期:  1998-05-20

NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究

  • 1. (1)中国科学院北京电子显微镜实验室与凝聚态物理中心,北京 100080; (2)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京 100080
    基金项目: 

    中国科学院基金和国家自然科学基金资助的课题.

摘要: 用高分辨电子显微学方法研究了Ni80Fe20/Mo磁性多层膜,结果表明:(1)多层膜的结晶状态,随Mo非磁性层厚度而变化.当Mo层厚度为0.7nm时,多层膜基本为非晶;当Mo层厚度大于1.6nm时,Mo层和NiFe层内分别结晶为体心立方和面心立方多晶,层内晶粒尺寸为2—6nm.(2)在Mo层厚度为1.6和2.1nm的多层膜中,NiFe层和Mo层之间存在两种取向关系:(110)Mo∥(111)NiFe,[111]

English Abstract

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