搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

氢化硅薄膜的晶化机理研究

李世彬 吴志明 李 伟 于军胜 蒋亚东 廖乃镘

氢化硅薄膜的晶化机理研究

李世彬, 吴志明, 李 伟, 于军胜, 蒋亚东, 廖乃镘
PDF
导出引用
导出核心图
  • 采用PECVD工艺制备了非晶,微晶和多形硅薄膜,研究了电极间热梯度对氢化硅薄膜结构的影响.根据拉曼光谱得到了微晶硅的晶化率,并在椭偏仪中用BEMA模型验证了其准确性.根据理论模型研究了热梯度对微晶和多形硅薄膜沉积机理的影响.研究薄膜厚度对晶化率的影响表明微晶薄膜底端和表面之间存在晶化梯度,而多形硅薄膜中无晶化梯度存在.采用Tauc-Lorentz模型拟合得到薄膜的结构参数表明非晶硅薄膜的致密度和有序度低,而多形硅和微晶硅薄膜的有序度、致密度相近,且明显高于非晶硅.
    • 基金项目: 教育部新世纪优秀人才计划 (批准号:NCET-04-0896)资助的课题.
  • 引用本文:
    Citation:
计量
  • 文章访问数:  3559
  • PDF下载量:  1068
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2008-02-02
  • 修回日期:  2008-05-05
  • 刊出日期:  2008-11-20

氢化硅薄膜的晶化机理研究

  • 1. 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都 610054
    基金项目: 

    教育部新世纪优秀人才计划 (批准号:NCET-04-0896)资助的课题.

摘要: 采用PECVD工艺制备了非晶,微晶和多形硅薄膜,研究了电极间热梯度对氢化硅薄膜结构的影响.根据拉曼光谱得到了微晶硅的晶化率,并在椭偏仪中用BEMA模型验证了其准确性.根据理论模型研究了热梯度对微晶和多形硅薄膜沉积机理的影响.研究薄膜厚度对晶化率的影响表明微晶薄膜底端和表面之间存在晶化梯度,而多形硅薄膜中无晶化梯度存在.采用Tauc-Lorentz模型拟合得到薄膜的结构参数表明非晶硅薄膜的致密度和有序度低,而多形硅和微晶硅薄膜的有序度、致密度相近,且明显高于非晶硅.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回