搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

SiX2(X=H,F)分子的结构与势能函数

蒋利娟 刘玉芳 刘振中 韩晓琴

SiX2(X=H,F)分子的结构与势能函数

蒋利娟, 刘玉芳, 刘振中, 韩晓琴
PDF
导出引用
导出核心图
  • 应用QCISD/6-311++G(3df,3pd)和B3P86/6-311++G(3d2f)对SiH2,SiF2的结构进行了优化,优化出SiH2分子的稳定构型为C2v,电子态为1A1,其平衡核间距Re=0.15149nm、键角∠HSiH=92.5025°、离解能为3.7098eV. SiF
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:10574039),教育部科学技术研究重点项目(批准号:206084),河南省创新型科技人才队伍建设工程(批准号:084100510011),河南省高等学校杰出科研人才创新工程(批准号:2006KYCX002)资助的课题.
  • 引用本文:
    Citation:
计量
  • 文章访问数:  4200
  • PDF下载量:  964
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2008-01-03
  • 修回日期:  2008-06-13
  • 刊出日期:  2009-01-20

SiX2(X=H,F)分子的结构与势能函数

  • 1. (1)河南师范大学物理与信息工程学院,新乡 453007; (2)河南师范大学物理与信息工程学院,新乡 453007;新乡学院物理系,新乡 453003
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:10574039),教育部科学技术研究重点项目(批准号:206084),河南省创新型科技人才队伍建设工程(批准号:084100510011),河南省高等学校杰出科研人才创新工程(批准号:2006KYCX002)资助的课题.

摘要: 应用QCISD/6-311++G(3df,3pd)和B3P86/6-311++G(3d2f)对SiH2,SiF2的结构进行了优化,优化出SiH2分子的稳定构型为C2v,电子态为1A1,其平衡核间距Re=0.15149nm、键角∠HSiH=92.5025°、离解能为3.7098eV. SiF

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回