搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

同轴介质阻挡放电发生器介质层等效电容和负载特性研究

赵凯 牟宗信 张家良

同轴介质阻挡放电发生器介质层等效电容和负载特性研究

赵凯, 牟宗信, 张家良
PDF
导出引用
导出核心图
  • 大气压介质阻挡放电(DBD)可以在常压下产生非平衡等离子体,已经成为热点研究领域. 通过脉冲或交变电源激发放电,研究电源输出特性、电源与放电发生器负载间的匹配和外界条件对放电的影响对于理解放电现象和提高放电效率具有重要意义. 本文采用Lissajous图形法,分别研究了驱动电压、气流速率等因素影响同轴DBD发生器介质层等效电容及负载幅频特性的规律. 结果表明,气流速率和驱动电压等外界条件影响DBD发生器的负载特性:介质层等效电容随气流速率增大而减小,随驱动电压增大而增大;幅频特性曲线均表现出RLC回路谐振现象,谐振频率随气流速率增大而增大,随驱动电压增大而减小. 通过对比发现,介质层等效电容随频率的变化曲线与幅频特性曲线具有一致的特征,介质层等效电容是影响电路谐振频率动态变化的主要因素. 提出了一种有关介质层等效电容的形成机制.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:21173110,11375041)资助的课题.
    [1]

    Kogelschatz U 2003 Plasma Chem. Plasma Process. 23 1

    [2]

    Massines F, Rabehi A, Decomps P, Gadri R R, Segur P, Mayoux C 1998 J. Appl. Phys. 83 2950

    [3]

    Gherardi N, Massines F 2001 IEEE Trans. Plasma Sci. 29 536

    [4]

    Masoud N, Martus K, Figus M, Becker K 2005 Contrib. Plasma Phys. 45 32

    [5]

    Rahel J, Sherman D M 2005 Phys. D: Appl. Phys. 38 547

    [6]

    Gherardi N, Gouda G, Gat E, Ricard A E, Massines F 2000 Plasma Sources Sci. Technol. 9 340

    [7]

    Popa S D 1996 Phys. D: Appl. Phys. 29 411

    [8]

    Liang Z, Luo H Y, Wang X X, Guan Z C, Wang L M 2010 Acta Phys. Sin. 59 8739(in Chinese)[梁卓, 罗海云, 王新新, 关志成, 王黎明 2010 物理学报 59 8739]

    [9]

    Li X C, Niu D Y, Xu L F, Jia P Y, Chang Y Y 2012 Chin. Phys. B 21 075204

    [10]

    Dong L F, Mao Z G, Ran J X 2005 Chin. Phys. 14 1618

    [11]

    Nersisyan G, Graham W G 2004 Plasma Sources Sci. Technol. 13 582

    [12]

    Li Q, Li J T, Zhu W C, Zhu X M, Pu Y K 2009 Appl. Phys. Lett. 95 141502

    [13]

    Akishev Y, Goossens O, Callebaut T, Leys C, Napartovich A, Trushkin N 2001 J. Phys. D: Appl. Phys. 34 2875

    [14]

    Luo H Y, Liang Z, Wang X X, Guan Z C, Wang L M 2008 J. Phys. D: Appl. Phys. 41 205205

    [15]

    Dong L F, Yang Y J, Fan W L, Yue H, Wang S, Xiao H 2010 Acta Phys. Sin. 59 1917(in Chinese)[董丽芳, 杨玉杰, 范伟丽, 岳晗, 王帅, 肖红 2010 物理学报 59 1917]

    [16]

    Jiang N, Cao Z X 2010 Acta Phys. Sin. 59 3324(in Chinese)[江南, 曹则贤 2010 物理学报 59 3324]

    [17]

    Liu X M, Song Y H, Wang Y N 2011 Chin. Phys. B 20 065205

    [18]

    Chen Z 2002 IEEE Trans. Plasma Sci. 30 1922

    [19]

    Zhang Y, Shang Z X, L Y D, Gu B 2013 Chin. J. Vacuum Sci. Technol. 33 342 (in Chinese)[张燕, 尚中选, 吕印定, 顾彪 2013 真空科学与技术学报 33 342]

    [20]

    Manley T C 1943 Trans. Electrochem. Soc. 84 83

    [21]

    Pal U N, Gulati P, Kumar N, Kumar M, Tyagi M S, Meena B L, Sharma A K, Prakash R 2011 IEEE Trans. Plasma Sci. 39 1475

    [22]

    Kriegseis J, Möller B, Grundmann S, Tropea C 2011 J. Electrostat. 69 302

    [23]

    Wang Y C, Wu M Q, Xu F Y, Zhang S R 2005 J. Sichuan Univ. (Nat. Sci. Ed.) 42 393 (in Chinese)[王仪财, 吴孟强, 许峰云, 张树人 2005 四川大学学报 (自然科学版) 42 393]

  • [1]

    Kogelschatz U 2003 Plasma Chem. Plasma Process. 23 1

    [2]

    Massines F, Rabehi A, Decomps P, Gadri R R, Segur P, Mayoux C 1998 J. Appl. Phys. 83 2950

    [3]

    Gherardi N, Massines F 2001 IEEE Trans. Plasma Sci. 29 536

    [4]

    Masoud N, Martus K, Figus M, Becker K 2005 Contrib. Plasma Phys. 45 32

    [5]

    Rahel J, Sherman D M 2005 Phys. D: Appl. Phys. 38 547

    [6]

    Gherardi N, Gouda G, Gat E, Ricard A E, Massines F 2000 Plasma Sources Sci. Technol. 9 340

    [7]

    Popa S D 1996 Phys. D: Appl. Phys. 29 411

    [8]

    Liang Z, Luo H Y, Wang X X, Guan Z C, Wang L M 2010 Acta Phys. Sin. 59 8739(in Chinese)[梁卓, 罗海云, 王新新, 关志成, 王黎明 2010 物理学报 59 8739]

    [9]

    Li X C, Niu D Y, Xu L F, Jia P Y, Chang Y Y 2012 Chin. Phys. B 21 075204

    [10]

    Dong L F, Mao Z G, Ran J X 2005 Chin. Phys. 14 1618

    [11]

    Nersisyan G, Graham W G 2004 Plasma Sources Sci. Technol. 13 582

    [12]

    Li Q, Li J T, Zhu W C, Zhu X M, Pu Y K 2009 Appl. Phys. Lett. 95 141502

    [13]

    Akishev Y, Goossens O, Callebaut T, Leys C, Napartovich A, Trushkin N 2001 J. Phys. D: Appl. Phys. 34 2875

    [14]

    Luo H Y, Liang Z, Wang X X, Guan Z C, Wang L M 2008 J. Phys. D: Appl. Phys. 41 205205

    [15]

    Dong L F, Yang Y J, Fan W L, Yue H, Wang S, Xiao H 2010 Acta Phys. Sin. 59 1917(in Chinese)[董丽芳, 杨玉杰, 范伟丽, 岳晗, 王帅, 肖红 2010 物理学报 59 1917]

    [16]

    Jiang N, Cao Z X 2010 Acta Phys. Sin. 59 3324(in Chinese)[江南, 曹则贤 2010 物理学报 59 3324]

    [17]

    Liu X M, Song Y H, Wang Y N 2011 Chin. Phys. B 20 065205

    [18]

    Chen Z 2002 IEEE Trans. Plasma Sci. 30 1922

    [19]

    Zhang Y, Shang Z X, L Y D, Gu B 2013 Chin. J. Vacuum Sci. Technol. 33 342 (in Chinese)[张燕, 尚中选, 吕印定, 顾彪 2013 真空科学与技术学报 33 342]

    [20]

    Manley T C 1943 Trans. Electrochem. Soc. 84 83

    [21]

    Pal U N, Gulati P, Kumar N, Kumar M, Tyagi M S, Meena B L, Sharma A K, Prakash R 2011 IEEE Trans. Plasma Sci. 39 1475

    [22]

    Kriegseis J, Möller B, Grundmann S, Tropea C 2011 J. Electrostat. 69 302

    [23]

    Wang Y C, Wu M Q, Xu F Y, Zhang S R 2005 J. Sichuan Univ. (Nat. Sci. Ed.) 42 393 (in Chinese)[王仪财, 吴孟强, 许峰云, 张树人 2005 四川大学学报 (自然科学版) 42 393]

  • 引用本文:
    Citation:
计量
  • 文章访问数:  1520
  • PDF下载量:  870
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2014-03-27
  • 修回日期:  2014-05-06
  • 刊出日期:  2014-09-05

同轴介质阻挡放电发生器介质层等效电容和负载特性研究

  • 1. 三束材料改性教育部重点实验室(大连理工大学), 大连理工大学物理与光电工程学院, 大连 116024
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:21173110,11375041)资助的课题.

摘要: 大气压介质阻挡放电(DBD)可以在常压下产生非平衡等离子体,已经成为热点研究领域. 通过脉冲或交变电源激发放电,研究电源输出特性、电源与放电发生器负载间的匹配和外界条件对放电的影响对于理解放电现象和提高放电效率具有重要意义. 本文采用Lissajous图形法,分别研究了驱动电压、气流速率等因素影响同轴DBD发生器介质层等效电容及负载幅频特性的规律. 结果表明,气流速率和驱动电压等外界条件影响DBD发生器的负载特性:介质层等效电容随气流速率增大而减小,随驱动电压增大而增大;幅频特性曲线均表现出RLC回路谐振现象,谐振频率随气流速率增大而增大,随驱动电压增大而减小. 通过对比发现,介质层等效电容随频率的变化曲线与幅频特性曲线具有一致的特征,介质层等效电容是影响电路谐振频率动态变化的主要因素. 提出了一种有关介质层等效电容的形成机制.

English Abstract

参考文献 (23)

目录

    /

    返回文章
    返回