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质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

李述汤 廖梅勇 张键辉 秦复光 刘志凯 杨少延 王占国

质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

李述汤, 廖梅勇, 张键辉, 秦复光, 刘志凯, 杨少延, 王占国
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出版历程
  • 收稿日期:  2000-04-22
  • 刊出日期:  2000-11-20

质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

  • 1. (1)香港城市大学物理和材料科学系,香港; (2)中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室,北京 100083

摘要: 用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜,X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明,此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗粒.碳离子的浅注入是该碳膜SP3形成的主要机理.从一个侧面说明了化学气相沉积法中偏压预处理增加金刚石成核的主要原因是因为离子轰击效应.

English Abstract

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