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射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究

冯博学 谢 亮 王 君 蒋生蕊 陈光华

射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究

冯博学, 谢 亮, 王 君, 蒋生蕊, 陈光华
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出版历程
  • 收稿日期:  2000-02-24
  • 修回日期:  2000-05-20
  • 刊出日期:  2000-10-20

射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究

  • 1. 兰州大学物理系,兰州 730000
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:69876018)资助的课题.

摘要: 研究了射频溅射制备的NiOx膜的电致变色性能,发现富氧非理想化学配比的NiO x(x>1)膜具有变色活性,这种膜出现Ni3+和Ni2+的混 合价态,当H+注入并占据Ni空位时,导致Ni3+的t2g 能级被填满,Ni3+被阴极还原为Ni2+引起光学透明,即为漂白态; 反之,H+被萃取出NiO

English Abstract

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