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真空磁场热处理温度对不同厚度的Ni88Cu12薄膜畴结构及磁性的影响

刘文姝 高润亮 冯红梅 刘悦悦 黄怡 王建波 刘青芳

真空磁场热处理温度对不同厚度的Ni88Cu12薄膜畴结构及磁性的影响

刘文姝, 高润亮, 冯红梅, 刘悦悦, 黄怡, 王建波, 刘青芳
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出版历程
  • 收稿日期:  2019-12-22

真空磁场热处理温度对不同厚度的Ni88Cu12薄膜畴结构及磁性的影响

  • 兰州大学物理科学与技术学院
  • 通信作者: 刘青芳, liuqf@lzu.edu.cn
    基金项目: 国家级-国家自然科学基金(51771086)

摘要: 本文利用射频磁控溅射方法,在Si衬底上制备了Ni88Cu12薄膜,并且研究了膜厚以及热处理对畴结构和磁性的影响。X射线衍射结果表明热处理后的薄膜晶粒长大,扫描电镜结果发现不同热处理温度下薄膜表现出不同的形貌特征。热处理前后的薄膜面内归一化磁滞回线结果显示,经过热处理的Ni88Cu12薄膜条纹畴形成的临界厚度降低,未热处理的Ni88Cu12薄膜在膜厚为210 nm时出现条纹畴结构,而经过 300℃热处理的Ni88Cu12薄膜在膜厚为105 nm就出现了条纹畴结构。高频磁谱的结果表明,随着热处理温度的增加,Ni88Cu12薄膜的共振峰会有小范围的移动。

English Abstract

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