非化学计量比靶材溅射制备Cu-Al-O薄膜的光学电学性质研究
物理学报
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物理学报  2011, Vol. 60 Issue (11): 117307     doi:10.7498/aps.60.117307
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非化学计量比靶材溅射制备Cu-Al-O薄膜的光学电学性质研究
潘佳奇1, 朱承泉1, 李育仁1, 兰伟1,2, 苏庆1,2, 刘雪芹1,2, 谢二庆1,2
1. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;
2. 兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室,兰州 730000
Electrical and optical properties of Cu-Al-O thin films sputtered using non-stoichiometric target
Pan Jia-Qi1, Zhu Chen-Quan1, Li Yu-Ren1, Lan Wei1,2, Su Qing1,2, Liu Xue-Qin1,2, Xie Er-Qing1,2
1. School of Physical Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China;
2. Key Laboratory for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China

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