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超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究

李天富 陈东风 王洪立 孙凯 刘蕴韬

超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究

李天富, 陈东风, 王洪立, 孙凯, 刘蕴韬
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-01-15
  • 修回日期:  2009-03-25
  • 刊出日期:  2009-11-20

超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究

  • 1. (1)中国原子能科学研究院,北京 102413; (2)中国原子能科学研究院,北京 102413;德国柏林HMI研究所,柏林 D-14109
    基金项目: 

    利用分子束外延薄膜生长技术,制备了200V/4  Fe/900V/MgO(100)薄膜样品,通过X射线反射和极化中子反射两种测量手段获得了薄膜的表面、界面及各层膜厚的相关结构信息.中子反射结果表明,Fe原子磁矩在室温下约为1.0±0.1 μB,随着温度的降低,Fe原子磁矩增加,在10 K时达到1.5±0.1 μB.利用指数定律拟合磁矩随温度的变化情况,外推得出4铁薄膜样品的居里温度约为310±30 K.

摘要: Ultrathin Fe film 200  V/4  Fe/900  V/MgO(100) has been prepared by molecular beam epitaxy (MBE). The structure parameters, such as the surface and interface roughness and the thickness of each layer, were obtained by X-ray and neutron reflectivity mea

English Abstract

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