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含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅳ)氮掺杂对薄膜结构的影响

王焕友 徐 慧 邓超生 李明君 肖剑荣

含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅳ)氮掺杂对薄膜结构的影响

王焕友, 徐 慧, 邓超生, 李明君, 肖剑荣
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-09-22
  • 修回日期:  2006-10-10
  • 刊出日期:  2007-05-20

含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅳ)氮掺杂对薄膜结构的影响

  • 1. (1)中南大学材料科学与工程学院,长沙 410083; (2)中南大学物理科学与技术学院,长沙 410083; (3)中南大学物理科学与技术学院,长沙 410083;中南大学材料科学与工程学院,长沙 410083

摘要: 不同条件下,在单晶硅基片上沉积了含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜.原子力显微(AFM)形貌显示,掺N后,薄膜变得致密均匀.傅里叶变换吸收红外光谱(FTIR)表明,随着r(r=N2/[N2+CF4+CH4])的增大薄膜中C—H键的逐渐减少,C〖FY=,1〗N和C≡N键含量逐渐增加.X射线光电子能谱(XPS)的C1s和N1s峰拟合结果发现,N掺入导致在薄膜中出现β-C3N4和a-CNx(x=1,2,3)成分.Roman散射谱的G峰向高频方向位移和峰值展宽等证明:随着r的增大,薄膜内sp2键态含量增加.

English Abstract

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