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低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能

李宇杰 谢凯 李效东 许静 韩喻 杜盼盼

低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能

李宇杰, 谢凯, 李效东, 许静, 韩喻, 杜盼盼
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  • 通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO2三维有序胶体晶体模板,采用等离子体增强化学气相沉积法在200℃低温条件下填充高折射率材料Ge,获得了Ge反opal三维光子晶体.实现了低于GeH4热分解温度的低温填充.通过扫描电镜、X射线衍射仪和傅里叶变换显微红外光谱仪对Ge反opal的形貌、成分和光学性能进行了表征.结果表明:沉积得到无定型态Ge,退火后形成多晶Ge,Ge在SiO2微球空隙内填充致密均匀.Ge反opal的反射光谱有明显的光学反射峰,表现
    • 基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973)项目(批准号:5130702002)资助的课题.
    [1]

    [1]Yablonovitch E 1987 Phys. Rev. Lett. 58 2059

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    ]Blanco A, Chomski E, Grabtchak S, Ibisate M, John S, Leonard S W 2000 Nat. 405 437

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    ]Li Y J, Xie K, Xu J, Long Y F 2006 Mater. Rev. 20 129[李宇杰、谢凯、许静、龙永福 2006 材料导报 20 129]

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    ]García-Santamaría F, Ibisate M, Rodríguez I, Meseguer F, López C 2003 Adv. Mater. 15 788

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    ]Míguez H, Chomski E, García-Santamaría F, Ibisate M, John S, López C, Meseguer F, Mondia J P, Ozin G A, Toader O, Van Driel H M 2001 Adv. Mater. 13 1634

    [16]

    ]Yang M J, Shieh J, Hsu S L, Huang I J, Leu C C, Shen S W, Huang T Y, Lehnen P, Chien C H 2005 Solid-State Electrochem. Lett. 8 C74

    [17]

    ]Ou H, R T P, Rdam, Rottwitt K, Grumsen F, Horsewell A, Berg R W 2007 Appl. phys. B: Lasers and Optics b 87 327

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    ]Carrion M N P, Bottechia J P, Pereyra I 1997 Thin Solid Films 308-309 219

    [19]

    ]Tian M B 2006 Thin Film Technologies and Materials (Beijing: Tstinghua University Press) p198 (in Chinese)[田民波 2006 薄膜技术与薄膜材料(北京: 清华大学出版社) 第198页]

  • [1]

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    [2]John S 1987 Phys. Rev. Lett. 58 2486

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    [3]Krauss T F, De La Rue R M, Brand S 1996 Nat. 383 699

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    [4]Birner A, Mubller, F, Gruning U 1998 Phys. Stat. Sol. (a) 165 111

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    ]Yang M J, Shieh J, Hsu S L, Huang I J, Leu C C, Shen S W, Huang T Y, Lehnen P, Chien C H 2005 Solid-State Electrochem. Lett. 8 C74

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    ]Tian M B 2006 Thin Film Technologies and Materials (Beijing: Tstinghua University Press) p198 (in Chinese)[田民波 2006 薄膜技术与薄膜材料(北京: 清华大学出版社) 第198页]

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出版历程
  • 收稿日期:  2009-03-23
  • 修回日期:  2009-07-27
  • 刊出日期:  2010-03-15

低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能

  • 1. 国防科学技术大学材料工程与应用化学系,长沙 410073
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展计划(973)项目(批准号:5130702002)资助的课题.

摘要: 通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO2三维有序胶体晶体模板,采用等离子体增强化学气相沉积法在200℃低温条件下填充高折射率材料Ge,获得了Ge反opal三维光子晶体.实现了低于GeH4热分解温度的低温填充.通过扫描电镜、X射线衍射仪和傅里叶变换显微红外光谱仪对Ge反opal的形貌、成分和光学性能进行了表征.结果表明:沉积得到无定型态Ge,退火后形成多晶Ge,Ge在SiO2微球空隙内填充致密均匀.Ge反opal的反射光谱有明显的光学反射峰,表现

English Abstract

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