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Sol-gel法制备Bi0.85Nd0.15FeO3多铁性薄膜

Tu Rong Goto Takashi 李超 王传彬 沈强 张联盟 郭冬云

Sol-gel法制备Bi0.85Nd0.15FeO3多铁性薄膜

Tu Rong, Goto Takashi, 李超, 王传彬, 沈强, 张联盟, 郭冬云
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  • 利用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜.研究退火温度对其晶相形成的影响,发现在450 ℃退火时,Bi0.85Nd0.15FeO3晶相开始形成,但是结晶较差,而且存在杂相;在500—600 ℃退火可以获得单相Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜,退火温度升高有利于其结晶.对600 ℃退火的Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜的介电、铁电和电磁性能进行了测试.在测试频率为1 MHz时,其介电常数和介电损耗分别为145,0.032;饱和磁化强度大约为44.8 emu/cm3;剩余极化值(2Pr)大约是16.6 μC/cm2.
    • 基金项目: 中国科学技术部国际科技合作计划(批准号: 2009DFB50470),国家自然科学基金青年科学基金(批准号: 50902108)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-06-01
  • 修回日期:  2009-12-02
  • 刊出日期:  2010-08-15

Sol-gel法制备Bi0.85Nd0.15FeO3多铁性薄膜

  • 1. (1)Institute for Materials Research,Tohoku University,Sendai 980-8577,Japan; (2)武汉理工大学材料科学与工程学院,材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070; (3)武汉理工大学材料科学与工程学院,材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070; Institute for Materials Research,Tohoku University,Sendai 980-8577,Japan
    基金项目: 

    中国科学技术部国际科技合作计划(批准号: 2009DFB50470),国家自然科学基金青年科学基金(批准号: 50902108)资助的课题.

摘要: 利用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜.研究退火温度对其晶相形成的影响,发现在450 ℃退火时,Bi0.85Nd0.15FeO3晶相开始形成,但是结晶较差,而且存在杂相;在500—600 ℃退火可以获得单相Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜,退火温度升高有利于其结晶.对600 ℃退火的Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜的介电、铁电和电磁性能进行了测试.在测试频率为1 MHz时,其介电常数和介电损耗分别为145,0.032;饱和磁化强度大约为44.8 emu/cm3;剩余极化值(2Pr)大约是16.6 μC/cm2.

English Abstract

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