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强磁场对不同厚度Fe-Ni纳米多晶薄膜的生长过程及磁性能的影响

曹永泽 王强 李国建 马永会 隋旭东 赫冀成

强磁场对不同厚度Fe-Ni纳米多晶薄膜的生长过程及磁性能的影响

曹永泽, 王强, 李国建, 马永会, 隋旭东, 赫冀成
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  • 有无6 T强磁场条件下, 利用分子束气相沉积方法制备了21 nm和235 nm厚的Fe-Ni纳米多晶薄膜. 研究发现, 0 T时, 21 nm厚的薄膜是晶粒堆叠而成, 晶粒尺寸为6–7 nm; 6 T时, 21 nm厚的薄膜首先在基片表面形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层, 晶粒沿基片表面拉长, 随后以6–7 nm尺寸的晶粒堆叠而成; 0 T时, 235 nm厚度的薄膜生长初期平均晶粒尺寸为3.6 nm, 生长中期平均晶粒尺寸为5.6 nm, 生长末期薄膜近似柱状方式生长, 晶粒沿生长方向拉长; 6 T时, 235 nm厚度的薄膜在基片表面也形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层, 晶粒沿基片表面拉长, 随后以尺寸均匀的6.1 nm晶粒堆叠而成; 而且, 6 T强磁场使得不同厚度薄膜的面外与面内矫顽力都降低.
    • 基金项目: 国家自然科学基金项目 (批准号: 51425401, 51101034)和中央高校基本科研业务费专项资金 (批准号: N140902001, N130509002) 资助的课题.
    [1]

    Li X H, Yang Z 2004 Acta Phys. Sin. 53 1510 (in Chinese) [李晓红, 杨正 2004 物理学报 53 1510]

    [2]

    Berling D, Caricato A P, Denys E, Fernandez M, Leggieri G, Luby S, Luches A, Martino M, Mengucci P 2007 Appl. Surf. Sci. 253 6522

    [3]

    Zeng Z M, Feng J F, Wang Y, Han X F, Zhan W S, Zhang X G, Zhang Z 2006 Phys. Rev. Lett. 97 106605

    [4]

    Zhang L R, Lu H, Liu X, Bai J M, Wei F L 2012 Chin. Phys. B 21 037502

    [5]

    Liu H L, He W, Du H F, Fang Y P, Wu Q, Zhang X Q, Yang H T, Cheng Z H 2012 Chin. Phys. B 21 077503

    [6]

    Jia B P, Gao L 2008 J. Phys. Chem. C 112 666

    [7]

    Raylman R R, Clavo A C, Wahl R L 1996 Bioelectromagnetics 17 358

    [8]

    Suzuki T S, Sakka Y, Kitazawa K 2001 Adv. Eng. Mater. 3 490

    [9]

    Wang Q, Liu Y, Liu T, Gao P F, Wang K 2012 Appl. Phys. Lett. 101 132406

    [10]

    Wang C J, Wang Q, Wang Y Q, Huang J, He J C 2006 Acta Phys. Sin. 55 648 (in Chinese) [王春江, 王强, 王亚勤, 黄剑, 赫冀成 2006 物理学报 55 648]

    [11]

    Ma Y W, Watanabe K, Awaji S, Motokawa M 2000 Jpn. J. Appl. Phys. 39 L726

    [12]

    Taniguchi T, Sassa K, Yamada T, Asai S 2000 Mater. Trans. 8 981

    [13]

    Wang H Y, Mitani S, Motokawa M, Fujimori H 2003 J. Appl. Phys. 93 9145

    [14]

    Cao Y Z, Li G J, Wang Q, Ma Y H, Wang H M, He J C 2013 Acta Phys. Sin. 62 227501 (in Chinese) [曹永泽, 李国建, 王强, 马永会, 王慧敏, 赫冀成 2013 物理学报 62 227501]

    [15]

    Wang Q, Cao Y Z, Li G J, Wang K, Du J J, He J C 2013 Sci. Adv. Mater. 5 447

    [16]

    Cao Y Z, Wang Q, Li G J, Du J J, Wu C, He J C 2013 J. Magn. Magn. Mater. 332 38

  • [1]

    Li X H, Yang Z 2004 Acta Phys. Sin. 53 1510 (in Chinese) [李晓红, 杨正 2004 物理学报 53 1510]

    [2]

    Berling D, Caricato A P, Denys E, Fernandez M, Leggieri G, Luby S, Luches A, Martino M, Mengucci P 2007 Appl. Surf. Sci. 253 6522

    [3]

    Zeng Z M, Feng J F, Wang Y, Han X F, Zhan W S, Zhang X G, Zhang Z 2006 Phys. Rev. Lett. 97 106605

    [4]

    Zhang L R, Lu H, Liu X, Bai J M, Wei F L 2012 Chin. Phys. B 21 037502

    [5]

    Liu H L, He W, Du H F, Fang Y P, Wu Q, Zhang X Q, Yang H T, Cheng Z H 2012 Chin. Phys. B 21 077503

    [6]

    Jia B P, Gao L 2008 J. Phys. Chem. C 112 666

    [7]

    Raylman R R, Clavo A C, Wahl R L 1996 Bioelectromagnetics 17 358

    [8]

    Suzuki T S, Sakka Y, Kitazawa K 2001 Adv. Eng. Mater. 3 490

    [9]

    Wang Q, Liu Y, Liu T, Gao P F, Wang K 2012 Appl. Phys. Lett. 101 132406

    [10]

    Wang C J, Wang Q, Wang Y Q, Huang J, He J C 2006 Acta Phys. Sin. 55 648 (in Chinese) [王春江, 王强, 王亚勤, 黄剑, 赫冀成 2006 物理学报 55 648]

    [11]

    Ma Y W, Watanabe K, Awaji S, Motokawa M 2000 Jpn. J. Appl. Phys. 39 L726

    [12]

    Taniguchi T, Sassa K, Yamada T, Asai S 2000 Mater. Trans. 8 981

    [13]

    Wang H Y, Mitani S, Motokawa M, Fujimori H 2003 J. Appl. Phys. 93 9145

    [14]

    Cao Y Z, Li G J, Wang Q, Ma Y H, Wang H M, He J C 2013 Acta Phys. Sin. 62 227501 (in Chinese) [曹永泽, 李国建, 王强, 马永会, 王慧敏, 赫冀成 2013 物理学报 62 227501]

    [15]

    Wang Q, Cao Y Z, Li G J, Wang K, Du J J, He J C 2013 Sci. Adv. Mater. 5 447

    [16]

    Cao Y Z, Wang Q, Li G J, Du J J, Wu C, He J C 2013 J. Magn. Magn. Mater. 332 38

  • [1] 胡晓亮, 梁宏, 王会利. 高雷诺数下非混相Rayleigh-Taylor不稳定性的格子Boltzmann方法模拟. 物理学报, 2020, 69(4): 1-10. doi: 10.7498/aps.69.20191504
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-09-26
  • 修回日期:  2014-10-26
  • 刊出日期:  2015-03-20

强磁场对不同厚度Fe-Ni纳米多晶薄膜的生长过程及磁性能的影响

  • 1. 东北大学, 材料电磁过程研究教育部重点实验室, 沈阳 110819
    基金项目: 

    国家自然科学基金项目 (批准号: 51425401, 51101034)和中央高校基本科研业务费专项资金 (批准号: N140902001, N130509002) 资助的课题.

摘要: 有无6 T强磁场条件下, 利用分子束气相沉积方法制备了21 nm和235 nm厚的Fe-Ni纳米多晶薄膜. 研究发现, 0 T时, 21 nm厚的薄膜是晶粒堆叠而成, 晶粒尺寸为6–7 nm; 6 T时, 21 nm厚的薄膜首先在基片表面形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层, 晶粒沿基片表面拉长, 随后以6–7 nm尺寸的晶粒堆叠而成; 0 T时, 235 nm厚度的薄膜生长初期平均晶粒尺寸为3.6 nm, 生长中期平均晶粒尺寸为5.6 nm, 生长末期薄膜近似柱状方式生长, 晶粒沿生长方向拉长; 6 T时, 235 nm厚度的薄膜在基片表面也形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层, 晶粒沿基片表面拉长, 随后以尺寸均匀的6.1 nm晶粒堆叠而成; 而且, 6 T强磁场使得不同厚度薄膜的面外与面内矫顽力都降低.

English Abstract

参考文献 (16)

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