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氨基氰分子在193nm的光离解动力学

I. A. MCLAREN J. B. HALPERN W. M. JACKSON 解笑湘

氨基氰分子在193nm的光离解动力学

I. A. MCLAREN, J. B. HALPERN, W. M. JACKSON, 解笑湘
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-04-21
  • 刊出日期:  1987-03-05

氨基氰分子在193nm的光离解动力学

  • 1. (1)美国Howard大学化学系; (2)美国加州大学Davis分校化学系; (3)中国科学院安徽光学精密机械研究所

摘要: 本文研究了氨基氰分子(H2NCN)的光离解动力学。利用激光诱导荧光技术(LIF)检测了这一分子在193nm下光解所生成的CN(X2Σ+)基,在激光能量为0.35mJ/脉冲的条件下,CN(X)基的LIF信号十分弱,其0—0带的转动温度为1590±90K;当激光能量较高时,LIF信号明显增加,并观察到=2能级上的布居。在50℃的温度下,本实验测量了氨基氰分子的紫外吸收光谱,在193nm其吸收截面小于2.4×10-19cm2。二次光解机理可用来解释本实验的结果。

English Abstract

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