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a-Ge/Ag迭层中的临近效应和互扩散

张裕恒 刘宏宝

a-Ge/Ag迭层中的临近效应和互扩散

张裕恒, 刘宏宝
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-08-25
  • 刊出日期:  2005-07-06

a-Ge/Ag迭层中的临近效应和互扩散

  • 1. 中国科学技术大学物理系

摘要: 本文研究了不同厚度Ag膜与2000?非晶Ge膜形成的迭层行为。发现随Ag膜厚度的减小,迭层的室温电阻率愈来愈小于相同厚度单层Ag膜的室温电阻率,实验在室温下得出明显的临近效应。当对这些迭层退火时,实验得到十分不同的电阻R300K与退火温度Ta的关系以及不同Ta下各种R(Ta)-T的关系。由X射线衍射结构分析电子显微镜观察和电子探针扫描成分分析的结果,本文给这些退火过程中的新现象以物理解释。

English Abstract

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