搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

Mg0.57Zn0.43O合金薄膜生长及性能表征

秦杰明 曹建明 蒋大勇

Mg0.57Zn0.43O合金薄膜生长及性能表征

秦杰明, 曹建明, 蒋大勇
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  641
  • PDF下载量:  606
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2013-01-17
  • 修回日期:  2013-03-09
  • 刊出日期:  2013-07-05

Mg0.57Zn0.43O合金薄膜生长及性能表征

  • 1. 长春理工大学材料科学与工程学院, 长春 130022;
  • 2. 内蒙古民族大学物理学院, 通辽 028000
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 61106050, 21201022)

    内蒙古自然科学基金(批准号: 2010MS0105)和吉林大学超硬材料国家重点实验室开放项目资助的课题.

摘要: 本文利用金属有机气相沉积法(MOCVD)生长单一立方相Mg0.57Zn0.43O (记作立方MZO)合金薄膜, 以及该合金薄膜在后期热处理过程中质量和热稳定性的关系. 通过X射线衍射等测试发现, 后期热处理对于立方MZO合金薄膜质量具有较大的影响. 其中在500850℃的条件下, 合金薄膜的结晶质量和表面形貌随温度的增加得到明显的改善, 吸收截止边逐渐蓝移,带隙展宽, 但仍保持单一立方结构. 当温度达到950℃时立方MZO合金薄膜出现混合相. 通过对立方MZO合金薄膜制备的MSM型单元器件进行光响应的测试表明, 在外加15 V的偏压下, 器件的响应峰值在260 nm附近,紫外/可见抑制比大约为4个数量级, 饱和响应度为3.8 mA/W, 暗电流值为5 pA左右.

English Abstract

参考文献 (13)

目录

    /

    返回文章
    返回