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Vol. 17, No. 8 (1961)

1961年04月20日
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金属原子键强度的电子结构分析
龙期威, 王桂琴
1961, 76 (8): 1-8. doi: 10.7498/aps.17.1
摘要 +
本文综合分析了十四种金属的电子结构参数和熔点及升华热的实验数据,提出了一个关于金属原子键强度和电子结构的关系的定性看法,认为电子在波矢空间状态分布的稳定程度决定原子键强度的高低,费密表面附近的状态密度越小,则电子状态分布越稳定,结合强度越高;并指出:晶体最容易沿电子状态分布改变最小的面和方向滑移。
由宇宙线(1011—1014电子伏)引起的高能核作用
张文裕
1961, 76 (8): 9-33. doi: 10.7498/aps.17.9
摘要 +
这篇总结性文章叙论了由能量高到1011—1014电子伏的粒子在乳胶和云室中所引起的高能核作用。文中首先提出和讨论了在测量上较困难的一些问题,例如,初能量的测量,次粒子的辨认和靶质量的估计。一些可能揭示碰撞机构从而显示核子内部结构的物理量的物理意义,也适当地加以讨论和阐明。除了不同次粒子的多重性外,主要的物理量是:次粒子的角分布、它们的横动量和非弹性系数。关于这些量的测量原理,实验准确度和实验结果的物理意义,特别是后面一点,都有了较充分的检查和讨论。末了,“一个发射中心”和两个发射中心”的各种模型也从物理观点作了较定性的描述和讨论,并和实验结果作了比较。希望通过这篇文章对高能核作用目前发展的概况、尚存在的问题及今后工作的方向能有一定的了解。
由汽态还原生长金属须的机制
葛庭燧, 万耀光
1961, 76 (8): 34-40. doi: 10.7498/aps.17.34
摘要 +
进行了用蒸汽还原法生长铜须和铁须的实验。研究了须的生长机制,为的是找出能够生出又粗又长而强度又极高的金属须的有效措施。实验指出,当生长槽材料的晶体结构与生长须的金属的晶体结构相同时,可以促进须的生长。由此所得的结论是,须的生长是通过沿轴线的螺型位错的机制。观测了所生的铜须和铁须在生长槽上的分布和排列取向的各种方式,由此推论到这些须是由顶端生长的。此外,实验还指出,氯化亚铜(或亚铁)蒸汽是优先在须的顶端还原的,这可能是由于螺型位错在须顶端所产生的表面台阶对于这种还原有一种催化作用。观测了直径50—120微米的大铜须的生长情况,发现了片状生长、堆垛生长和层状生长。这种特殊生长方式可能与一维和二维成核生长的交互更迭发生有关。讨论了通过适当选择和控制生长条件和方式的途径来获得基本上不含位错的大块晶体的可能性。
重子的复合模型与奇异数
郭承孝
1961, 76 (8): 41-42. doi: 10.7498/aps.17.41
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