[1] |
宋建军, 张龙强, 陈雷, 周亮, 孙雷, 兰军峰, 习楚浩, 李家豪. 基于晶向优化和Sn合金化技术的一种2.45 G弱能量微波无线输能用Ge基肖特基二极管. 物理学报,
2021, 70(10): 108401.
doi: 10.7498/aps.70.20201674
|
[2] |
吴宇昊, 王伟丽, 魏炳波. 液态三元Fe-Sn-Si/Ge偏晶合金相分离过程的实验和模拟研究. 物理学报,
2016, 65(10): 106402.
doi: 10.7498/aps.65.106402
|
[3] |
苏少坚, 张东亮, 张广泽, 薛春来, 成步文, 王启明. Ge(001)衬底上分子束外延生长高质量的Ge1-xSnx合金. 物理学报,
2013, 62(5): 058101.
doi: 10.7498/aps.62.058101
|
[4] |
康昆勇, 邓书康, 申兰先, 孙启利, 郝瑞亭, 化麒麟, 唐润生, 杨培志, 李明. 退火对Ge诱导晶化多晶Si薄膜结晶特性的影响. 物理学报,
2012, 61(19): 198101.
doi: 10.7498/aps.61.198101
|
[5] |
熊飞, 潘红星, 张辉, 杨宇. 溅射沉积自诱导混晶界面与Ge量子点的生长研究. 物理学报,
2011, 60(8): 088102.
doi: 10.7498/aps.60.088102
|
[6] |
陈青云, 孟川民, 卢铁城, 徐明, 胡又文. 中子嬗变掺杂前后Ge纳米晶的结构和性质. 物理学报,
2010, 59(9): 6473-6479.
doi: 10.7498/aps.59.6473
|
[7] |
杨福华, 谭 劲, 周成冈, 罗红波. Si1-xGex合金半导体中CiCs和CiOi缺陷随Ge含量的变化. 物理学报,
2008, 57(2): 1109-1116.
doi: 10.7498/aps.57.1109
|
[8] |
梅策香, 阮 莹, 代富平, 魏炳波. 深过冷Ag-Cu-Ge三元共晶合金的相组成与凝固特征. 物理学报,
2007, 56(2): 988-993.
doi: 10.7498/aps.56.988
|
[9] |
郑永梅, 王仁智, 何国敏. 经验赝势法在GaAs/Ge,AlAs/GaAs和AlAs/Ge异质结能带排列理论计算中的应用. 物理学报,
1996, 45(9): 1536-1542.
doi: 10.7498/aps.45.1536
|
[10] |
李铁, 李玉芝, 牟陟, 陈林, 张裕恒. 退火Ge/Fe多层膜的固相反应与磁性. 物理学报,
1996, 45(2): 239-243.
doi: 10.7498/aps.45.239
|
[11] |
张庶元, 陈志文, 谭舜, 朱警生, 李凡庆, 吴自勤. Pd,Ge薄膜体系中的分形晶化行为. 物理学报,
1996, 45(1): 94-100.
doi: 10.7498/aps.45.94
|
[12] |
李玉芝, 许存义, 周贵恩, 刘宏宝, 张裕恒. 退火a-Ge/Pb叠层膜的扩散机制与电阻率的反常行为. 物理学报,
1993, 42(5): 832-839.
doi: 10.7498/aps.42.832
|
[13] |
侯建国, 毕岭松, 吴自勤. a-Ge/Au双层膜分形过程的计算机模拟. 物理学报,
1990, 39(8): 1-6.
doi: 10.7498/aps.39.1-2
|
[14] |
张裕恒, 刘宏宝. a-Ge/Ag迭层中的临近效应和互扩散. 物理学报,
1988, 37(6): 950-958.
doi: 10.7498/aps.37.950
|
[15] |
傅英, 徐文兰. Ge1-xSix混晶声子谱. 物理学报,
1988, 37(1): 162-166.
doi: 10.7498/aps.37.162
|
[16] |
侯建国, 吴自勒. a-Ge/Au双层膜退火后分形区的形成. 物理学报,
1988, 37(10): 1735-1740.
doi: 10.7498/aps.37.1735
|
[17] |
刘宏宝, 王冀洪, 王昌燧, 薛白, 张裕恒. 退火对非晶Ge/晶态Ag迭层膜性质的影响. 物理学报,
1987, 36(7): 924-929.
doi: 10.7498/aps.36.924
|
[18] |
车广灿, 梁敬魁, 金作文, 赵忠贤. 急冷Ag-Ge二元系合金的相关系. 物理学报,
1985, 34(4): 476-483.
doi: 10.7498/aps.34.476
|
[19] |
罗遂初, 秦大成, 吴自勤. 加热过程中Au—Ge—Ni薄膜的结构变化. 物理学报,
1982, 31(10): 1401-1404.
doi: 10.7498/aps.31.1401
|
[20] |
张开明, 叶令. CI在Si和Ge(111)面上的化学吸附. 物理学报,
1980, 29(12): 1596-1603.
doi: 10.7498/aps.29.1596
|