硅掺杂铝镓氮薄膜场发射性能研究
物理学报
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物理学报  2013, Vol. 62 Issue (1): 017702     doi:10.7498/aps.62.017702
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硅掺杂铝镓氮薄膜场发射性能研究
王京1, 王如志1, 赵维1, 陈建2, 王波1, 严辉1
1. 北京工业大学材料科学与工程学院 薄膜实验室, 北京 100124;
2. 中山大学测试中心, 广州 510275
Field emission properties of silicon doped AlGaN thin film
Wang Jing1, Wang Ru-Zhi1, Zhao Wei1, Chen Jian2, Wang Bo1, Yan Hui1
1. Laboratory of Thin Film Materials, College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China;
2. Instrumental Analysis of Research Center, Sun Yat-sen University, Guangzhou 510275, China

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