Si基Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>/SiO<sub>2</sub>双层膜驻极体的电荷储存与输运
物理学报
引用检索 快速检索
物理学报  2001, Vol. 50 Issue (2): 293-298
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
Si基Si3N4/SiO2双层膜驻极体的电荷储存与输运
G.M.SESSLER1, 张晓青2, 夏钟福2, 张冶文2
(1)达姆施塔特技术大学电声研究所,德国Darmstadt; (2)同济大学波耳固体物理研究所,上海200092
CHARGE STORAGE AND TRANSPORTATION IN DOUBLE LAYERS OF Si3N4/SiO2 ELECTRET FILM BASED ON Si SUBSTRATE
G.M.SESSLER1, ZHANG XIAO-QING2, XIA ZHONG-FU2, ZHANG YE-WEN2
(1)达姆施塔特技术大学电声研究所,德国Darmstadt; (2)同济大学波耳固体物理研究所,上海200092

版权所有 ©  物理学报
地址:北京市603信箱,《物理学报》编辑部 邮编:100190
电话:010-82649294,82649829,82649863   E-mail:apsoffice@iphy.ac.cn
网络系统维护电话:010-62662699-1; 技术支持邮箱 linjl@magtech.com.cn