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N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性

周鸿娟 甄聪棉 张永进 赵翠莲 马丽 侯登录

N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性

周鸿娟, 甄聪棉, 张永进, 赵翠莲, 马丽, 侯登录
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-08-09
  • 修回日期:  2009-09-07
  • 刊出日期:  2010-05-15

N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性

  • 1. 河北省新型薄膜材料实验室,河北师范大学物理科学与信息工程学院,石家庄 050016
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:10804026和10774037) 和河北省自然科学基金(批准号:E2007000280) 资助的课题.

摘要: 利用射频磁控反应溅射技术,制备了氮掺杂的SiO2纳米薄膜.发现N掺杂SiO2体系纳米薄膜具有铁磁性.较小的氮化硅颗粒均匀分布在氧化硅基质中有利于磁有序的形成.基底温度为400℃时,样品薄膜具有最大的饱和磁化强度和矫顽力,分别为35 emu/cm3和75 Oe.薄膜的磁性可能产生于氮化硅和氧化硅的界面.理论计算表明,N掺杂SiO2体系具有净自旋.同时,由氮化硅和氧化硅界面之间的电荷转移导致的轨道磁矩也会对样品的磁性有贡献

English Abstract

参考文献 (17)

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