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注入电流对垂直腔面发射激光器横模特性的影响

杨 浩 郭 霞 关宝璐 王同喜 沈光地

注入电流对垂直腔面发射激光器横模特性的影响

杨 浩, 郭 霞, 关宝璐, 王同喜, 沈光地
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-07-28
  • 修回日期:  2007-09-18
  • 刊出日期:  2008-05-28

注入电流对垂直腔面发射激光器横模特性的影响

  • 1. 北京工业大学北京市光电子技术实验室,北京 100022
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:60506012), 国家重点基础研究发展计划(973)项目(批准号:2006CB604902),霍英东基金(批准号:101062),北京科技新星(批准号:2005A11), 北京市优秀人才强教计划(批准号:20051D0501502), 北京市自然科学基金(批准号:KZ200510005003), 国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA03A121)资助的课题.

摘要: 对980nm氧化限制型垂直腔面发射激光器横模进行测试和研究,理论上从时间、空间变量的速率方程出发,利用空间积分法分析了典型电注入参数对弱折射率导引垂直腔面发射激光器(VCSELs)横模行为的影响,通过实验测试,得到VCSELs的横模光场分布情况,并与理论分析进行对比,得出相应的实验结果,在氧化孔径不变的情况下,随着注入电流的增加,载流子分布从有源区中心向边缘移动,模式从低阶基模向高阶模转变,并发生了较强的模式竞争以及载流子空间烧孔效应,最终导致基模强度的降低.另一方面,通过比较不同注入孔径下高阶模的发生时

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