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基于修正等效介质理论的微纳深沟槽结构反射率快速算法研究

刘世元 张传维 顾华勇 沈宏伟

基于修正等效介质理论的微纳深沟槽结构反射率快速算法研究

刘世元, 张传维, 顾华勇, 沈宏伟
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-12-27
  • 修回日期:  2008-02-25
  • 刊出日期:  2008-09-20

基于修正等效介质理论的微纳深沟槽结构反射率快速算法研究

  • 1. (1)华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉 430074; (2)武汉光电国家实验室光电材料与微纳制造研究部,武汉 430074
    基金项目: 

    国家高技术研究发展计划(863)(批准号:2006AA04Z325)、国家自然科学基金(批准号:50775090)、国家重点基础研究发展计划(批准号:2003CB716207)和新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-06-0639)资助的课题.

摘要: 利用等效介质理论和严格耦合波理论研究比较微纳米级高深宽比深沟槽结构的红外反射谱,提出一种对等效折射率加入色散修正项的深沟槽结构反射率快速算法. 通过超越色散方程分析和大量计算发现,加入的等效折射率色散修正项与波长的平方成反比,并且与深沟槽结构的材料、周期和占空比有关. 这种新的计算方法可以非常精确地获得高深宽比深沟槽结构的反射率,而且明显提高了运算速度,在复杂深沟槽结构基于模型的红外反射谱测量中具有重要的应用价值,可以应用于微电子和微机电系统制造过程中高深宽比微纳深沟槽结构刻蚀进度的在线实时监测.

English Abstract

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