| [1] |
张晓波, 青芳竹, 李雪松. 化学气相沉积石墨烯薄膜的洁净转移. 物理学报,
2019, 68(9): 096801.
doi: 10.7498/aps.68.20190279
|
| [2] |
方家, 李双亮, 许盛之, 魏长春, 赵颖, 张晓丹. 高速微晶硅薄膜沉积过程中的等离子体稳态研究. 物理学报,
2013, 62(16): 168103.
doi: 10.7498/aps.62.168103
|
| [3] |
李新利, 谷锦华, 高海波, 陈永生, 郜小勇, 杨仕娥, 卢景霄, 李瑞, 焦岳超. 椭圆偏振光谱实时在线监测与离线分析微晶硅薄膜的生长. 物理学报,
2012, 61(3): 036802.
doi: 10.7498/aps.61.036802
|
| [4] |
高海波, 李瑞, 卢景霄, 王果, 李新利, 焦岳超. 分步法高速沉积微晶硅薄膜. 物理学报,
2012, 61(1): 018101.
doi: 10.7498/aps.61.018101
|
| [5] |
丁艳丽, 朱志立, 谷锦华, 史新伟, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄. 沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响. 物理学报,
2010, 59(2): 1190-1195.
doi: 10.7498/aps.59.1190
|
| [6] |
申陈海, 卢景霄, 陈永生. 微晶硅薄膜高速沉积及电学性质的研究. 物理学报,
2009, 58(10): 7288-7293.
doi: 10.7498/aps.58.7288
|
| [7] |
谷锦华, 丁艳丽, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄. 椭圆偏振技术研究VHF-PECVD高速沉积微晶硅薄膜的异常标度行为. 物理学报,
2009, 58(6): 4123-4127.
doi: 10.7498/aps.58.4123
|
| [8] |
韩晓艳, 耿新华, 侯国付, 张晓丹, 李贵君, 袁育杰, 魏长春, 孙建, 张德坤, 赵颖. 高速沉积微晶硅薄膜光发射谱的研究. 物理学报,
2009, 58(2): 1344-1347.
doi: 10.7498/aps.58.1344
|
| [9] |
韩晓艳, 侯国付, 魏长春, 张晓丹, 戴志华, 李贵君, 孙建, 陈新亮, 张德坤, 薛俊明, 赵颖, 耿新华. 高速沉积本征微晶硅的优化及其在太阳电池中的应用. 物理学报,
2009, 58(6): 4254-4259.
doi: 10.7498/aps.58.4254
|
| [10] |
韩晓艳, 侯国付, 李贵君, 张晓丹, 袁育杰, 张德坤, 陈新亮, 魏长春, 孙 健, 耿新华. 低速p/i界面缓冲层对高速沉积微晶硅太阳电池性能的影响. 物理学报,
2008, 57(8): 5284-5289.
doi: 10.7498/aps.57.5284
|
| [11] |
葛 洪, 张晓丹, 岳 强, 赵 静, 赵 颖. 甚高频等离子体增强化学气相沉积大面积平行板电极间真空电势差分布研究. 物理学报,
2008, 57(8): 5105-5110.
doi: 10.7498/aps.57.5105
|
| [12] |
袁育杰, 侯国付, 薛俊明, 韩晓艳, 刘云周, 杨兴云, 刘丽杰, 董 培, 赵 颖, 耿新华. 微晶硅n-i-p太阳电池中n型掺杂层对本征层结构特性的影响. 物理学报,
2008, 57(6): 3892-3897.
doi: 10.7498/aps.57.3892
|
| [13] |
陈永生, 郜小勇, 杨仕娥, 卢景霄, 谷锦华. 沉积温度对微晶硅薄膜结构特性的影响. 物理学报,
2007, 56(7): 4122-4126.
doi: 10.7498/aps.56.4122
|
| [14] |
周炳卿, 刘丰珍, 朱美芳, 周玉琴, 吴忠华, 陈 兴. 微晶硅薄膜的表面粗糙度及其生长机制的X射线掠角反射研究. 物理学报,
2007, 56(4): 2422-2427.
doi: 10.7498/aps.56.2422
|
| [15] |
郭群超, 耿新华, 孙 建, 魏长春, 韩晓艳, 张晓丹, 赵 颖. 气体滞留时间对高速沉积的微晶硅薄膜性能的影响分析. 物理学报,
2007, 56(5): 2790-2795.
doi: 10.7498/aps.56.2790
|
| [16] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 王 岩, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅太阳电池的研究. 物理学报,
2005, 54(4): 1899-1903.
doi: 10.7498/aps.54.1899
|
| [17] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍. 微晶硅薄膜的制备及结构和稳定性研究. 物理学报,
2005, 54(8): 3910-3914.
doi: 10.7498/aps.54.3910
|
| [18] |
周炳卿, 刘丰珍, 朱美芳, 谷锦华, 周玉琴, 刘金龙, 董宝中, 李国华, 丁 琨. 利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构. 物理学报,
2005, 54(5): 2172-2175.
doi: 10.7498/aps.54.2172
|
| [19] |
谷锦华, 周玉琴, 朱美芳, 李国华, 丁 琨, 周炳卿, 刘丰珍, 刘金龙, 张群芳. 低温制备微晶硅薄膜生长机制的研究. 物理学报,
2005, 54(4): 1890-1894.
doi: 10.7498/aps.54.1890
|
| [20] |
杨恢东, 吴春亚, 赵 颖, 薛俊明, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积法沉积μc-Si∶H薄膜中氧污染的初步研究. 物理学报,
2003, 52(11): 2865-2869.
doi: 10.7498/aps.52.2865
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