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基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学(已撤稿)

廖国进 骆红 闫绍峰 戴晓春 陈明

基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学(已撤稿)

廖国进, 骆红, 闫绍峰, 戴晓春, 陈明
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  • 基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外可见近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在2001100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556 1.76,测试波长为550 nm)、低吸收和直接能量带隙(3.914.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:50376067),辽宁省教育厅科学基金(批准号:2008316)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-01-15
  • 修回日期:  2010-06-09
  • 刊出日期:  2011-03-15

基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学(已撤稿)

  • 1. (1)辽宁工业大学机械工程与自动化学院,锦州 121001; (2)中石油东北炼化工程有限公司锦州设计院,锦州 121001
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50376067),辽宁省教育厅科学基金(批准号:2008316)资助的课题.

摘要: 基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外可见近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在2001100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556 1.76,测试波长为550 nm)、低吸收和直接能量带隙(3.914.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.

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