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Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

颜世申 梅良模 朱世富 蔡建旺 赵见高 倪 经

Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

颜世申, 梅良模, 朱世富, 蔡建旺, 赵见高, 倪 经
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-12-19
  • 修回日期:  2004-04-06
  • 刊出日期:  2004-11-16

Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

  • 1. (1)山东大学物理与微电子学院,济南 250100; (2)四川大学材料科学与工程系,成都 610064; (3)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京 100080; (4)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京 100080;四川大学材料科学与工程系,成都 610064
    基金项目: 

    国家重点基础研究专项基金资助的课题.

摘要: 对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.

English Abstract

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