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用紫外光电子能谱研究a-Si1-xCx:H的价带特性

张仿清 徐希翔 陈光华 蒋致诚 陈正石 齐尚奎

用紫外光电子能谱研究a-Si1-xCx:H的价带特性

张仿清, 徐希翔, 陈光华, 蒋致诚, 陈正石, 齐尚奎
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-03-10
  • 刊出日期:  2005-07-14

用紫外光电子能谱研究a-Si1-xCx:H的价带特性

  • 1. (1)兰州大学物理系; (2)中国科学院兰州化学物理研究所

摘要: 用UPS技术获得了GDa-Si1-xCx:H合金薄膜的价带谱,分析了掺杂和表面氧化对价带谱的影响,并结合XPS,AES等电子能谱测试手段,对这种材料的价电子分布和键合特性作了初步的研究。

English Abstract

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