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退火对非晶Ge/晶态Ag迭层膜性质的影响

刘宏宝 王冀洪 王昌燧 薛白 张裕恒

退火对非晶Ge/晶态Ag迭层膜性质的影响

刘宏宝, 王冀洪, 王昌燧, 薛白, 张裕恒
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  • 本文利用X射线衍射,扫描电子显微镜和电阻温度关系的测量,研究了非晶Ge/晶态Ag迭层膜的退火行为。低温电阻的测量温区为80—300K,同时给出了室温电阻和退火温度的关系,实验发现一个新的互扩散现象:随着退火温度的升高,Ge不断晶化,同时,部分Ge由于扩散而溶于Ag中,退火温度再升高,扩散到Ag中的Ge又重新析出,利用电阻变化估算出Ge/Ag互扩散的激活能为0.15eV。本文还讨论了退火过程中各结构下的输运性质。
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-08-08
  • 刊出日期:  2005-03-18

退火对非晶Ge/晶态Ag迭层膜性质的影响

  • 1. 中国科学技术大学物理系

摘要: 本文利用X射线衍射,扫描电子显微镜和电阻温度关系的测量,研究了非晶Ge/晶态Ag迭层膜的退火行为。低温电阻的测量温区为80—300K,同时给出了室温电阻和退火温度的关系,实验发现一个新的互扩散现象:随着退火温度的升高,Ge不断晶化,同时,部分Ge由于扩散而溶于Ag中,退火温度再升高,扩散到Ag中的Ge又重新析出,利用电阻变化估算出Ge/Ag互扩散的激活能为0.15eV。本文还讨论了退火过程中各结构下的输运性质。

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